Fujifilm XF 33mm f/1,4 R LM WR

Новый стандарт качества изображения

Объектив XF33mmF1.4 R LM WR объединяет десятилетия прецизионной инженерии, передовых технологий и тщательно отлаженных производственных процессов, открывая новую эру превосходных оптических характеристик и производительности для камер и объективов FUJIFILM серии X. Объектив XF33mm F1.4 обязательно раскроет весь потенциал ваших снимков сегодня и в будущем — оцените результаты своими глазами.

Новый Стандарт

Набор объективов с великолепными оптическими характеристиками Fujinon стал еще шире благодаря XF33mmF1.4 R LM WR. Поистине универсальный светосильный объектив с фиксированным фокусным расстоянием. Это первый объектив для байонета X Mount, который точно соответствует полю зрения эквивалентному фокусному расстоянию 50 мм. Он будет обеспечивать высочайшую производительность каждый день в течение многих лет.

Непревзойденное качество

Объектив состоит из 15 элементов в 10 группах, включая две асферические и три низкодисперсионные линзы. XF33mmF1.4 R LM WR обеспечивает оптимальное качество и не имеющую аналогов точность цветопередачи с минимальной коматической и хроматической аберрацией. Это обеспечивает непревзойденное разрешение и свежие яркие цвета.

На все случаи жизни

При весе менее 400 г XF33mmF1.4 R LM WR легко переносить и использовать. Прекрасно сбалансированный с камерой благодаря безупречному дизайну, объектив идеально подходит для любого случая.

Готов к съемке фото или видео

XF33mmF1.4 R LM WR использует линейный мотор для быстрой, точной и почти бесшумной автофокусировки. «Дыхание фокуса» также незаметно, поэтому объектив идеально подойдет для видеооператоров, которые меняют фокус во время съемки, или фотографов, которые хотят работать быстро, тихо и без лишних усилий.

Продолжайте творить

Объектив XF33mmF1.4 R LM WR готов ко всему, даже к самым суровым условиям. Он отличается не только качеством оптики и точностью фокусировки — его устойчивая к условиям окружающей среды конструкция может выдержать любую погоду. Пыль, влага и температура до −10 °C не навредят ему, поэтому ничто не сможет помешать вашему творческому процессу.